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本实用新型涉及一种镀膜设备，其不同之处在于：其包括样品固定架和分别在真空状态的进样室、传样室、第一镀膜室、及第二镀膜室，进样室、第一镀膜室、及第二镀膜室分别与传样室通过传样狭缝阀门连通或隔断；样品固定架内设置若干个巴条且漏出各巴条两侧的解理...
该专利属于赵润所有，仅供学习研究参考，未经过赵润授权不得商用。

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