【技术实现步骤摘要】
一种镀膜设备
[0001]本技术涉及芯片镀膜领域，尤其是一种镀膜设备。
技术介绍
[0002]半导体激光器又称激光二极管，是光通信、光传感、光泵浦等领域的核心器件。其工作原理是通过一定的激励方式，靠电子在能带间跃迁发光，利用半导体晶体的解理面101a形成两个平行反射镜面组成谐振腔101e，使光振荡、反馈，产生光的辐射放大，输出激光。
[0003]请参考图1至图3，在生产半导体激光器芯片1011时，步骤一，将半导体晶圆片1解理成若干个条状的巴条101；步骤二，将解理好的巴条101整齐堆叠，然后对各个巴条101两侧的解理面101a分别进行镀膜，其中一侧的解理面101a镀制减反膜101b、另一侧的解理面101a镀制高反膜101c；步骤三，将巴条101划分为若干个分立芯片1011。其中，步骤二中的巴条101的减反膜101b和高反膜101c作为谐振腔101e的两个腔面。
[0004]而步骤二解理并堆叠巴条101的过程中，在完全真空条件或高纯气体条件下操作的成本远高于在空气中操作的成本，但空气中操作，必然会引起巴条101...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备，其特征在于：其包括样品固定架和分别在真空状态的进样室、传样室、第一镀膜室、及第二镀膜室，所述进样室、第一镀膜室、及第二镀膜室分别与所述传样室通过传样狭缝阀门连通或隔断；所述样品固定架内设置若干个巴条且漏出各所述巴条两侧的解理面；所述进样室内设置有输送装置，所述输送装置能将若干个所述样品固定架依次送入所述进样室内或送出设备外；所述传样室内设置有传样机构，所述传样机构能将所述输送装置上的各所述样品固定架依次转移到所述第一镀膜室内和第二镀膜室内后再送回输送装置上；所述第一镀膜室用于清洗各所述巴条两侧的解理面并镀制钝化膜；所述第二镀膜室用于在各所述巴条一侧钝化膜上镀制减反膜、另一侧钝化膜上镀制高反膜。2.如权利要求1所述的一种镀膜设备，其特征在于：所述传样狭缝阀门有三个，分别为设置在所述传样室与所述进样室之间的第二狭缝阀门，设置在所述传样室与所述第一镀膜室之间的第三狭缝阀门，及设置在所述传样室与所述第二镀膜室之间的第四狭缝阀门。3.如权利要求1所述的一种镀膜设备，其特征在于：所述进样室内靠上的位置设置有第一高真空泵，所述进样室内靠下的位置设置有第二高真空泵，所述传样室内设置有第三高真空泵，所述第一镀膜室内设置有第四高真空泵，所述第二镀膜室内设置有第五高真空泵。4.如权利要求1所述的一种镀膜设备，其特征在于：所述进样室的上侧设置有连通内外的第一狭缝阀门，所述输送装置可带动所述样品固定架向下移动将所述样品固定架向下送入所述进样室内，所述输送装置也可带动所述样品固定架向上移动将所述样品固定架向上送出所述进样室外。5.如权利要求1所述的一种镀膜设备，其特征在于：设备还包括电控系统；所述输送装置包括第一减速电机、丝杆、输送架、及限位支架；所述限位支架有两个且相对设置，两个所述限位支架的内侧分别形成有竖直延伸的导向槽；所述第一减速电机由所述电控系统控制，所述第一减速电机固定在所述进样室的底部且位于两个所述限位支架之间；所述丝杆竖直延伸且下端与所述第一减速电机的输出轴固定；所述输送架竖直延伸且设置在两个所述限位支架之间，所述输送架的两侧分别形成有与两个所述导向槽一一对应的导向块，所述输送架的中部开设有竖直延伸且与所述丝杆配合的内螺纹孔，使所述输送架套设在所述丝杆外，所述输送架的朝所述传样室的一侧开设有沿竖直方向间隔排布的若干个放样口，各放样口分别用于放置所述样品固定架。6.如权利要求1所述的一种镀膜设备，其特征在于：所述传样机构为机械手臂，所述机械手臂包括第二减速电机、第一传动齿轮、第二传动齿轮、轴承底座、传动轴、轴承、第一气缸、第二气缸、底片、夹爪、及夹爪驱动气缸；所述第二减速电机由所述电控系统控制并固定在所述传样室的底部；所述第一传动齿轮水平设置且底部与所述第二减速电机的输出轴固定；所述轴承底座固定在所述传样室的底部；所述传动轴竖直设置且通过所述轴承固定在所述轴承底座上，所述传动轴的外周固定有与所述第一传动齿轮啮合的第二传动齿轮；所述第一气缸和所述第二气缸分别由所述电控系统控制，所述第一气缸竖直设置且所述第一气缸的缸体固定在所述传动轴的顶部，所述第二气缸水平设置且所述第...
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