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本发明公开一种CVD生长石墨烯粉体中进气管内壁积碳去除方法，包括以下步骤：S1、将石墨进气管插入液态金属中，然后通过石墨进气管向液态金属中通入含碳源气体/氮气的混合气体，在液态金属中生长石墨烯粉体，石墨烯粉体连续生长预定时间后，断开含碳源气...
该专利属于常州二维碳素科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州二维碳素科技股份有限公司授权不得商用。

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