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本发明公开了一种制作曲面浮雕轮廓器件的掩模版图案优化设计方法，根据曝光光强分布与光刻胶不同成分的吸收系数、光敏系数等参数的关系，建立光刻胶的光敏混合物(PAC)浓度分布对曝光光强的响应模型；根据光刻胶完全曝光的显影速率、光刻胶未曝光的显影速...
该专利属于成都同力精密光电仪器制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都同力精密光电仪器制造有限公司授权不得商用。

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