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本申请涉及一种刻蚀系统包括：刻蚀腔，用于对基片进行刻蚀；检测腔，用于对基片的刻蚀结果进行检测；沉积腔，用于对检测腔内检测后的的基片进行沉积；光学检测装置，包括光学模块以及检测控制模块，光学模块位于检测腔内，用于在检测控制模块的控制下检测对基...
该专利属于江苏第三代半导体研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏第三代半导体研究院有限公司授权不得商用。

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