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一种新型的用于半导体器件制造的设备平台及其工作方法,设备平台包括:传送腔组,所述传送腔组包括多个传送腔;围绕所述传送腔组的侧部周围排布的缓冲腔组和工艺腔组,所述工艺腔组包括围绕所述传送腔组的部分侧部排布的多个工艺腔,所述缓冲腔组包括多个缓冲...该专利属于上海谙邦半导体设备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海谙邦半导体设备有限公司授权不得商用。
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一种新型的用于半导体器件制造的设备平台及其工作方法,设备平台包括:传送腔组,所述传送腔组包括多个传送腔;围绕所述传送腔组的侧部周围排布的缓冲腔组和工艺腔组,所述工艺腔组包括围绕所述传送腔组的部分侧部排布的多个工艺腔,所述缓冲腔组包括多个缓冲...