下载原子层沉积装置和原子层沉积方法的技术资料

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在ALD装置(1)的腔室(2)中,位于面对成膜表面(10a)的位置处的喷头(4)设置有在沿着成膜表面的两个方向(也称为“两个成膜表面方向”)上以预定间隔交替布置以便面对成膜表面(10a)的原料气体喷射口(41)和OH*形成气体喷射口(42)...
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