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本发明涉及一种近红外纳米光敏剂及其制备方法和应用，涉及光敏剂技术领域。本发明所述的近红外纳米光敏剂通过对氟硼二吡咯母核进行共轭延长修饰，使其吸收和发射光谱接近于近红外光区；将多氟烷烃基团和聚乙二醇基团引入上述氟硼二吡咯结构中从而获得两亲性光...
该专利属于苏州大学所有，仅供学习研究参考，未经过苏州大学授权不得商用。

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