温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明实施例公开了一种掩膜版的制备方法、掩膜版、显示面板和光刻设备。掩膜版用于在一次曝光工艺中制备目标膜层，目标膜层包括多个位置不同的孔，至少两个孔的孔深和/或孔径不同；制备方法包括：获取目标膜层的各个孔的位置、孔深和孔径参数，形成三维图案...
该专利属于武汉天马微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉天马微电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。