掩膜版及其制备方法、显示面板、显示装置和光刻设备制造方法及图纸

技术编号:32857726 阅读:36 留言:0更新日期:2022-03-30 19:31
本发明专利技术实施例公开了一种掩膜版的制备方法、掩膜版、显示面板和光刻设备。掩膜版用于在一次曝光工艺中制备目标膜层,目标膜层包括多个位置不同的孔,至少两个孔的孔深和/或孔径不同;制备方法包括:获取目标膜层的各个孔的位置、孔深和孔径参数,形成三维图案;根据三维图案和目标膜层的材料特性,获得曝光图案;根据曝光图案,计算掩膜版的空间分布图案;根据空间分布图案,制作掩膜版。本发明专利技术实施例中目标膜层的三维图案是通过掩膜版上的空间分布图案衍射出的不同光照强度的光斑光刻得到的,因此可以利用衍射原理,通过目标膜层的三维图案反向推导出掩膜版上的空间分布图案。实现了根据所需三维图案制作对应的掩膜版。根据所需三维图案制作对应的掩膜版。根据所需三维图案制作对应的掩膜版。

【技术实现步骤摘要】
掩膜版及其制备方法、显示面板、显示装置和光刻设备


[0001]本专利技术实施例涉及光刻技术,尤其涉及一种掩膜版及其制备方法、显示面板、显示装置和光刻设备。

技术介绍

[0002]随着移动终端的技术发展,拥有屏下摄像头的移动终端开始出现在市场上。广受消费者的追捧。
[0003]然而,屏下摄像头所在的屏幕区域需要使用相位乱序层,以减少衍射现象导致的成像质量低下的问题。相位乱序层需要通过多次曝光形成,生产步骤繁多,耗费时间较长。因此导致生产成本高,产量较低。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例提供一种掩膜版及其制备方法、显示面板、显示装置和光刻设备,以减少生产步骤,缩短生产时间。降低成本,提高产量。
[0005]第一方面,本专利技术实施例提供了一种掩膜版的制备方法,所述掩膜版用于在一次曝光工艺中制备目标膜层,所述目标膜层包括多个位置不同的孔,至少两个所述孔的孔深和/或孔径不同;所述制备方法包括:
[0006]获取所述目标膜层的各个所述孔的位置、孔深和孔径参数,形成三维图案;
[0007]根据所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版的制备方法,其特征在于,所述掩膜版用于在一次曝光工艺中制备目标膜层,所述目标膜层包括多个位置不同的孔,至少两个所述孔的孔深和/或孔径不同;所述制备方法包括:获取所述目标膜层的各个所述孔的位置、孔深和孔径参数,形成三维图案;根据所述三维图案和所述目标膜层的材料特性,获得曝光图案;根据所述曝光图案,计算掩膜版的空间分布图案;根据所述空间分布图案,制作掩膜版。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述根据所述三维图案和所述目标膜层的材料特性,获得曝光图案包括:根据各个所述孔的位置,确定所述曝光图案中的光斑位置;根据各个所述孔的孔径、孔深和所述材料特性,确定所述曝光图案的光斑直径和光斑强度;根据所述光斑位置、所述光斑直径和所述光斑强度,确定所述曝光图案。3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述根据所述曝光图案,计算掩膜版的空间分布图案包括:将所述曝光图案视为频域函数,对所述频域函数进行二维傅里叶变换,得到空间域的掩膜版的空间分布图案。4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述根据所述空间分布图案,制作掩膜版包括:提供空白掩膜版,所述空白掩膜版包括基板和在所述基板一侧依次层叠的遮光层和光刻胶层;根据所述空间分布图案,绘制掩膜版版图文件;根据所述掩膜版版图利用非接触式曝光照射所述空白掩膜版;经过显影、定影后,曝光区域的光刻胶溶解脱落,暴露曝光区域的所述遮光层;将暴露出的所述遮光层刻蚀掉形成透光区域,而受光刻胶保护...

【专利技术属性】
技术研发人员:宪梦洋
申请(专利权)人:武汉天马微电子有限公司
类型:发明
国别省市:

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