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本发明提出一种可测结构精度的纳米压印设备及压印方法，包括腔体和位于腔体上的左侧门、右侧门，还包括压印单元，检测单元和传输单元；检测单元位于腔体右侧，与右侧门相邻，包括晶圆托盘，XY轴位移平台，膜厚检测探头；传输单元位于压印单元和检测单元之间...
该专利属于青岛天仁微纳科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛天仁微纳科技有限责任公司授权不得商用。

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