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化学机械抛光组合物、清洗组合物、化学机械抛光方法和清洗方法技术
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文档序号:32853150
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提供:一种化学机械抛光组合物,其包含研磨剂,碱性组分,选自季型多铵盐、碳数为6以上的季铵盐、和具有酰胺结构的经烷基化的聚合物的至少一种化合物,以及水性载体;包含所述至少一种化合物和水性载体的清洗组合物;以及使用所述组合物且用于基材的化学机械...
该专利属于CMC材料株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过CMC材料株式会社授权不得商用。
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