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本发明提供基板处理装置、半导体装置的制造方法以及存储介质，能够降低堆积于旋转工作台的背面的堆积物的量。该基板处理装置具有：处理室，其设有对基板进行处理的多个处理区域；旋转工作台，其使载置于处理室内的基板通过以基板外的某点为中心旋转而依次通过...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

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