温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种基板处理装置、半导体装置的制造方法以及基板处理方法，抑制堆积物向基板处理装置的处理室内的附着。具有：具有支撑基板的基板支撑区域的基板支撑工具；设置于基板支撑区域的下部的绝热部；以及收纳基板支撑工具以及绝热部的筒状的反应容器，反...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。