温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实施方式涉及一种晶片的清洗方法、晶片以及半导体元件，上述晶片的清洗方法包括：擦洗步骤，通过包括以200rpm以下的旋转速度对清洗对象晶片进行擦刷处理的过程，来准备被刷式清洗的晶片，及清洗步骤，用清洗液清洗经过被刷式清洗的上述晶片，来准备被...
该专利属于赛尼克公司所有，仅供学习研究参考，未经过赛尼克公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。