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一种半导体单片集成电路的光刻设备制造技术
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文档序号:32850110
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本发明公开了一种半导体单片集成电路的光刻设备,包括框架结构,光刻结构,所述光刻结构设在框架结构上,框架结构,设计简单,成本低,单片放置台结构,避免了半导体单片在操作流程中的拿放,防止了手指碰触单片造成表面脏污,升降结构可调节光刻组件结构和单...
该专利属于芷江积成电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过芷江积成电子有限公司授权不得商用。
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