温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种半导体结构及其形成方法,其中方法包括:提供衬底,所述衬底包括基底、以及位于基底上的若干相互分立的鳍部,所述鳍部的材料内具有第一原子;在所述鳍部内形成开口;采用外延生长工艺在所述开口内形成源漏掺杂层,所述源漏掺杂层包括位于所述开口内壁表面...该专利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种半导体结构及其形成方法,其中方法包括:提供衬底,所述衬底包括基底、以及位于基底上的若干相互分立的鳍部,所述鳍部的材料内具有第一原子;在所述鳍部内形成开口;采用外延生长工艺在所述开口内形成源漏掺杂层,所述源漏掺杂层包括位于所述开口内壁表面...