下载半导体结构的形成方法的技术资料

文档序号:32804611

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一种半导体结构的形成方法,包括:提供衬底,所述衬底包括第一区和第二区;在所述第一区的所述衬底内形成第一沟槽;在形成所述第一沟槽的同时或之后,在所述第二区的所述衬底内形成若干相互分立的鳍部,相邻所述鳍部之间具有第二沟槽,且所述第二沟槽的深度小...
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