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本申请公开了氧化保护膜无水印生产结构，涉及保护膜的技术领域，改善氧化膜与物体之间会空气无法排出导致产生水印，不利于对保护物件的防护的问题，包括卷筒、保护膜本体、第一防护圈和第二防护圈，第二防护圈位于保护膜本体的一侧出口端，保护膜本体包括有氧...
该专利属于江阴市江泰高分子新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江阴市江泰高分子新材料有限公司授权不得商用。

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