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本发明提供能够更适当地维持真空室的气压的质量分析装置以及控制该质量分析装置的方法。本发明的质量分析装置的一例具备：第一真空室(101、201、301、401、501)、第一真空泵(106、203、303、403、503)、大气压相关值取得单...
该专利属于株式会社日立高新技术所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社日立高新技术授权不得商用。

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