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本申请发明涉及一种化合物、聚合物、图案形成材料、图案形成方法及半导体装置的制造方法。本发明的图案形成材料在如下情况下使用，即，在具有被加工膜的衬底的被加工膜上，使用图案形成材料形成有机膜并进行图案化之后，将使金属化合物含浸在有机膜中所得的复...
该专利属于铠侠股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过铠侠股份有限公司授权不得商用。

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