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本发明公开了一种电子器件金属图形的微加工方法，包括：在作为基底的电子器件表面涂覆具有第一窗口的第一牺牲层；将可重复使用的掩模覆盖在第一牺牲层上，并使掩模上开设的第二窗口与第一窗口对应设置；在掩模上涂覆具有第三窗口的第二牺牲层，并使第三窗口与...
该专利属于江西省纳米技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过江西省纳米技术研究院授权不得商用。

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