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一种压阻式MEMS传感器及其制备方法技术
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文档序号:32656063
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本发明提供一种压阻式MEMS传感器及其制备方法,包括SOI晶圆,SOI晶圆由依次设置的体硅层、埋氧层和器件硅层组成,器件硅层上生长有一层金属薄膜,金属薄膜上通过作图案化构造有压敏电阻,压敏电阻外还沉积一层顶部绝缘层,顶部绝缘层上作图案化形成...
该专利属于贵州航天智慧农业有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过贵州航天智慧农业有限公司授权不得商用。
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