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本发明公开了一种等离子体处理装置及其上电极组件的调节方法，该装置包含：真空反应腔，其由反应腔腔体和设有通孔的腔体端盖包围而成；下电极组件，与通孔中心对称；上电极组件，贯穿腔体端盖的通孔，上电极组件的边缘与通孔的侧壁之间设有间距；若干个加热组...
该专利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

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