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一种半导体结构的形成方法，包括：提供衬底；在衬底上形成若干分立的纳米结构，相邻的纳米结构之间具有凹槽；在衬底上形成第一介质层和初始隔离结构，所述第一介质层的顶部表面低于所述纳米结构的顶部表面，且所述第一介质层位于所述初始隔离结构部分侧壁表面...
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