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本申请提供了一种成像器件、传感器以及电子设备，该成像器件包括半导体衬底，半导体衬底的两侧设置第一阱和第二阱，半导体衬底的表面依次设置有第一绝缘介质层、浮栅和第二绝缘介质层，浮栅位于第一绝缘介质层和第二绝缘介质层之间形成的容纳腔内，第一绝缘介...
该专利属于华为技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华为技术有限公司授权不得商用。

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