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本发明实施例提供一种半导体结构及其制作方法，半导体结构的制作方法包括：提供衬底，衬底包括相邻的阵列区和外围区，阵列区包括与外围区相连的缓冲区；在衬底上形成依次层叠的第一介质层、第一支撑层、第二介质层、第二支撑层以及第三介质层，第一支撑层至少...
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