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本实用新型公开了一种调整光刻胶侧边角度的曝光装置，至少包括底座、曝光壳体、曝光腔和曝光架，所述曝光壳体设置于所述底座上，所述曝光壳体呈中空状以限定出所述曝光腔，所述曝光架滑动设置于所述曝光腔中，所述曝光腔中设置有曝光罩，所述曝光罩位于所述曝...
该专利属于深圳市墨提斯科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市墨提斯科技有限公司授权不得商用。

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