一种调整光刻胶侧边角度的曝光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种调整光刻胶侧边角度的曝光装置，至少包括底座、曝光壳体、曝光腔和曝光架，所述曝光壳体设置于所述底座上，所述曝光壳体呈中空状以限定出所述曝光腔，所述曝光架滑动设置于所述曝光腔中，所述曝光腔中设置有曝光罩，所述曝光罩位于所述曝光架的上方，其中，所述曝光罩具有第一区域和第二区域，所述第一区域上设置有若干个第一曝光区，所述第二区域上设置有若干个第二个曝光区，在第一曝光区和第二曝光区的各自的形状均由圆形限定的情况下，第一曝光区的直径小于第二曝光区的直径。的直径。的直径。

【技术实现步骤摘要】
一种调整光刻胶侧边角度的曝光装置


[0001]本技术涉及曝光
，尤其涉及一种调整光刻胶侧边角度的曝光装置。

技术介绍

[0002]平板显示的黄光制程就是经由涂胶、曝光、显影在基板上得到预定的光刻胶图形，光刻胶图形的侧边角度(TaperAngle，斜坡角度)是一个重要的产品特性。对光刻胶侧边角度的调整是一项重要的制程工艺，其中一个方法是对曝光显影后的光刻胶进行二次曝光，改变光刻胶内部的桥接键状态，进而影响后续加热工序中光刻胶侧边的流动程度，获得最终的侧边角度。在二次曝光时，UV光会打断光刻胶中感光剂的桥接键，生成一些反应气，少量的反应气可以排出，但如果曝光面积较大，反应气较多，则有部分反应气残留在光刻胶里面形成气泡，在后续热处理过程中气泡受热膨胀/破损，在光刻胶图形表面形成一个不良点。因此，本申请旨在提供一种能够克服上述缺陷的曝光装置。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种调整光刻胶侧边角度的曝光装置。
[0004]本技术的目的通过以下技术方案来实现：一种调整光刻胶侧边角度的曝光装置，至本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种调整光刻胶侧边角度的曝光装置，至少包括底座(1)、曝光壳体(2)、曝光腔(3)和曝光架(4)，所述曝光壳体(2)设置于所述底座(1)上，所述曝光壳体(2)呈中空状以限定出所述曝光腔(3)，所述曝光架(4)滑动设置于所述曝光腔(3)中，其特征在于，所述曝光腔(3)中设置有曝光罩(5)，所述曝光罩(5)位于所述曝光架(4)的上方，其中，所述曝光罩(5)具有第一区域(5a)和第二区域(5b)，所述第一区域(5a)上设置有若干个第一曝光区(6)，所述第二区域(5b)上设置有若干个第二曝光区(7)，在第一曝光区(6)和第二曝光区(7)的各自的形状均由圆形限定的情况下，第一曝光区(6)的直径小于第二曝光区(7)的直径。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光壳体(2)中设置有至少两条彼此平行的第一滑轨(8)，所述曝光...

【专利技术属性】
技术研发人员：区炜锋，
申请(专利权)人：深圳市墨提斯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：