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本发明提供了一种绝缘栅双极型晶体管及其制造方法,所述绝缘栅双极型晶体管的制造方法包括:提供一衬底,形成沟槽于所述衬底中;形成掺杂层于所述沟槽底部;执行退火工艺,使得所述掺杂层中的掺杂离子扩散进入所述衬底中,以形成包围所述沟槽底部的少子存储层...该专利属于绍兴中芯集成电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过绍兴中芯集成电路制造股份有限公司授权不得商用。
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本发明提供了一种绝缘栅双极型晶体管及其制造方法,所述绝缘栅双极型晶体管的制造方法包括:提供一衬底,形成沟槽于所述衬底中;形成掺杂层于所述沟槽底部;执行退火工艺,使得所述掺杂层中的掺杂离子扩散进入所述衬底中,以形成包围所述沟槽底部的少子存储层...