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本发明属于锂离子技术领域，尤其涉及一种掺硅补锂负极片及其制备方法以及锂离子电池，从上至下依次包括第一掺硅涂层、第一负极集流体、补锂层、第二负极集流体和第二掺硅涂层。本发明的掺硅补锂负极片两外侧设置有第一掺硅涂层和第二掺硅涂层，内侧设置有补锂...
该专利属于湖南立方新能源科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖南立方新能源科技有限责任公司授权不得商用。

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