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本发明公开了一种阻变存储器及其制备方法,包括:衬底;下电极,下电极和衬底相连接;阻变层,阻变层和下电极相连接;上电极,上电极和阻变层相连接,阻变层设置在下电极和上电极之间,有益效果在于阻变存储器在高阻态与低阻态之间转变时,吸收或者释放大量氧...该专利属于杭州国家集成电路设计产业化基地有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过杭州国家集成电路设计产业化基地有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种阻变存储器及其制备方法,包括:衬底;下电极,下电极和衬底相连接;阻变层,阻变层和下电极相连接;上电极,上电极和阻变层相连接,阻变层设置在下电极和上电极之间,有益效果在于阻变存储器在高阻态与低阻态之间转变时,吸收或者释放大量氧...