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本发明公开了一种用于超低轮廓铜箔及其覆铜板制备的化学沉积方法，包括以下步骤：对基材表面预处理，基材表面活化处理：将活化溶液均匀铺展于预处理后的基材表面，加热处理，在基材上得到活化层，进行一次或重复多次以下步骤，得到覆铜板：将铜前驱体溶液水平...
该专利属于天津大学所有，仅供学习研究参考，未经过天津大学授权不得商用。

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