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垂直栅控忆阻器制造技术
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下载垂直栅控忆阻器的技术资料
文档序号:32556430
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本实用新型一个或多个实施例提供一种垂直栅控忆阻器,包括:基底;设置在所述基底上的栅介质层;间隔设置在所述栅介质层上的底电极层和栅极层;依次设置在所述底电极层上的中间层和顶电极层。本实用新型能够实现复杂的功能,制备工艺简单,方便控制,且更环保...
该专利属于中南大学所有,仅供学习研究参考,未经过中南大学授权不得商用。
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