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本申请涉及集成组件和形成集成组件的方法。一些实施例包含一种形成集成组件的方法。在导电结构上方形成横向交替的第一牺牲材料和第二牺牲材料，且接着在所述牺牲材料上方形成竖直交替的第一层级和第二层级的堆叠。所述第一层级包含第一材料且所述第二层级包含...
该专利属于美光科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过美光科技公司授权不得商用。

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