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本发明涉及基板处理装置及其控制方法。基板处理装置的其特征在于，包括：真空卡盘部，供晶片搭载；环盖部，设置于所述真空卡盘部的外围部；介质供给部，与所述真空卡盘部连接，以向所述真空卡盘部供给检查介质；以及密封环部，设置于所述真空卡盘部以支承所述...
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