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公开一种基板处理装置及利用其的基板处理方法。基板处理装置包括：真空腔体；支承部，配置在所述真空腔体的内部，并支承被安装的基板；导流部，控制所述真空腔体内的气流；引导配管，与所述真空腔体连接而向外部引导所述真空腔体的内部的包括工序副产物和气体...
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