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本发明提供一种制造薄膜箔的方法，其中，通过真空沉积工艺在基底基板上形成金属薄膜层，以形成厚度为5μm或更小、优选地为2μm或更小的超薄膜箔。本发明提供的制造薄膜箔的方法包括：准备具有剥离性能的基底基板；准备金属原料；通过在基底基板上真空沉积...
该专利属于阿莫绿色技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过阿莫绿色技术有限公司授权不得商用。

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