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集成高速续流二极管的碳化硅分离栅MOSFET及制备方法技术
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下载集成高速续流二极管的碳化硅分离栅MOSFET及制备方法的技术资料
文档序号:32503756
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本发明涉及一种集成高速续流二极管的碳化硅分离栅MOSFET及其制备方法,属于功率半导体器件技术领域。本发明的MOSFET采用分离栅的设计,以降低器件的开关损耗。为了防止分离栅结构所带来的栅氧可靠性问题,加入了P型埋层降低多晶硅边缘栅氧化层的...
该专利属于成都蓉矽半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过成都蓉矽半导体有限公司授权不得商用。
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