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本发明公开了一种等离子体处理装置，包括：反应腔；第一进气件，其内部具有第一凹槽，所述第一凹槽底端开设有若干第一通孔；第二进气件，安装于所述第一进气件上，所述第一凹槽与所述第二进气件之间形成有腔体，所述第二进气件的进气口用于接入反应气体，所述...
该专利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

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