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本发明提出了一种激光植金属凸台方法,用于半导体晶片、芯片以及电路基板上的金属盘植金属凸台。金属箔(5)贴盖金属盘(11),采用激光切割分离出底层金属箔(51),之后又金属箔(5)贴盖在底层金属箔(51)上,又激光切割分离出第二层金属箔(52...该专利属于深圳市秦博核芯科技开发有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市秦博核芯科技开发有限公司授权不得商用。
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本发明提出了一种激光植金属凸台方法,用于半导体晶片、芯片以及电路基板上的金属盘植金属凸台。金属箔(5)贴盖金属盘(11),采用激光切割分离出底层金属箔(51),之后又金属箔(5)贴盖在底层金属箔(51)上,又激光切割分离出第二层金属箔(52...