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基板处理设备、离子注入设备和离子注入方法技术
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文档序号:32446359
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一种用于处理基板的设备,包括:工艺室,所述工艺室通过将处理液分配到所述基板上来执行液体处理工艺;以及部件,所述部件设置在所述工艺室中。所述部件中的至少一者的表面由含有离子注入的氟树脂的材料形成。有离子注入的氟树脂的材料形成。有离子注入的氟树...
该专利属于细美事有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过细美事有限公司授权不得商用。
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