温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种等离子体处理装置，其包含：真空反应腔，其内底部设有基座；静电夹盘，位于所述基座上，其包括承载面，用于承载待处理基片；接地环，设置于所述静电夹盘下方，以支撑所述静电夹盘；驱动单元，与所述接地环连接以驱动所述接地环上下移动，进而...
该专利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。