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本发明涉及一种光刻系统、基片交接系统及曝光方法，所述光刻系统包括对位机构、曝光机构和工作台，所述工作台包括至少两个容置槽，所述容置槽用于承载基片，所述对位机构用于对置于所述容置槽的基片进行对位处理，所述曝光机构对置于所述容置槽的基片进行直写...
该专利属于苏州源卓光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州源卓光电科技有限公司授权不得商用。

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