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本实用新型涉及光刻技术领域，解决了直写光刻装置存在的光学定位检测系统和曝光投影系统离轴对焦对不同镜头需要分别位移校正的问题。特点在于：在光学集光器和可编程的图形发生器之间增设对焦系统；其中对焦光学波长分束器位于光学集光器和可编程的图形发生器...
该专利属于芯硕半导体(合肥)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芯硕半导体(合肥)有限公司授权不得商用。

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