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一种磨光衬垫（１０４，３００，４００，５００）用于对晶片（１１２，５１６）或其它物体进行磨光。该磨光衬垫包括一种用于对磁性基片、光学基片或半导体基片进行磨光的方法，该方法包括利用磨光衬垫和磨光介质对基片进行磨光的步骤，该磨光衬垫包括：一个磨...该专利属于CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司所有，仅供学习研究参考，未经过CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司授权不得商用。
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一种磨光衬垫（１０４，３００，４００，５００）用于对晶片（１１２，５１６）或其它物体进行磨光。该磨光衬垫包括一种用于对磁性基片、光学基片或半导体基片进行磨光的方法，该方法包括利用磨光衬垫和磨光介质对基片进行磨光的步骤，该磨光衬垫包括：一个磨...