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一种产生其中布置有光学邻近校正特征的掩模设计的方法，该方法包括步骤：获得具有将被成像在基片上的特征的希望的目标图案；根据该目标图案确定第一干涉图，第一干涉图定义了该将被成像的特征中的至少一个特征和邻近该至少一个特征的场区之间的相长干涉的区域...
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