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从基片的选择区域去除外来杂质的等离子处理设备和方法技术
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下载从基片的选择区域去除外来杂质的等离子处理设备和方法的技术资料
文档序号:3238114
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用于屏蔽从基片上的第一区域凸出的器件免受等离子体影响、同时用等离子体从基片上的不同区域去除外来杂质的设备和方法。所述设备包括至少一个凹陷,其被定位并定好尺寸以接收器件,以便器件被屏蔽而免受等离子体的影响。所述设备进一步包括窗口,通过所述窗口...
该专利属于诺信公司所有,仅供学习研究参考,未经过诺信公司授权不得商用。
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