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半导体器件及其制造方法技术
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文档序号:3237903
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本发明提供一种半导体器件,包括:第一导电类型的半导体衬底;第一导电类型的阱,其形成于半导体衬底中;晶体管,其形成于阱中;第二导电类型的扩散区,其形成于半导体衬底中,以覆盖阱的侧面和底面;端子,其形成于半导体衬底上扩散区的外部;以及导电区,其...
该专利属于富士通微电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士通微电子株式会社授权不得商用。
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