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根据本发明的方法，硬掩模层通过原子层沉积方法被应用到形成一定结构的光致抗蚀剂层上，硬掩模层的一部分被去除，使得形成一定结构的光致抗蚀剂层的相应部分被暴露出。所述暴露的部分然后被去除。...
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